- Выполнение работ по запуску вспомогательного и технологического оборудования для осаждения из газовой фазы (CVD) и быстрой термической обработки (RTP) на производстве субмикронных полупроводниковых изделий с топологическими нормами 90-130 нм - Основное технологическое оборудование от Applied Materials (Producer, Centura RTP) и Lam Research/Novellus (C2 sequel, speed, altus) - установки плазмохимического, термического и озонового осаждения слоев из газовой фазы; вспомогательное оборудование включает в себя: форвакуумные, турбомолекулярные насосы, газовые кабинеты, кабинеты доставки жидких прекурсоров TEOS, TEB, TEPO, сухие и жидкостные скрубберы для утилизации продуктов после процесса осаждения, гликолевые теплообменники для поддержания равномерной температуры камер. В сумме 16 единиц основного оборудования и более 80 единиц вспомогательного оборудования - Плановое обслуживание, диагностика, калибровка и ремонт основного и вспомогательного оборудования. - Совместная работа и консультации с производителями оборудования (на английском языке). |